随着半导体制造工艺朝着高密度，高集成方向的迅速发展，科技研发人员将对RTP(Rapid ThermalProcessing)的加热技术更加关注。继MILA-3000系列之后最近日本真空理工公司推出新型MILA-5000红外线加热炉.该加热炉具有快速加热和快速冷却的功能，无环境污染等特长，并同高精的温度控制器组合为一体。具有价格低，体积小，性能高等特点。对于记忆材料和强导电体相关的RTP研究工作，MILA-5000红外线加热炉将提供更广泛的测量领域。

主要用途

强诱导体薄膜的结晶化退火
注入离子后的扩散退火
半导体材料的烧成与退火条件研究
玻璃基板的均热退火
热循环试验与热冲击试验
升温脱离试验与触媒试验

特点

50/sec的快速加热
试样在保护管内加热，所以气氛可选择真空，各种气体，流动气体
试样温度与程序设定温度同时显示，可完成精密的温度控制

技术指标

见附属文件